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槽式湿法刻蚀清洗设备

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槽式湿法刻蚀清洗设备

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  • 产品描述

    应用领域:RCA清洗,湿法去胶,介质层湿法刻蚀,金属层湿法刻蚀,炉管前清洗等
    设备类型:Cassette-type & Cassetteless-type
    晶圆尺寸:100mm~300mm
    设备配置:

                     - 支持化学液C.C.S.S.、L.C.S.S;
                     - Marangoni dry 或 spin dry;
                     - 自动换酸,自动补液、配液;
                     - 加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等;
                     - 槽体过温保护,各单元配置漏液传感器;
                     - 支持化学液回收;
                     - 全面支持SECS/GEM通讯协议。
    工艺指标:

                     - 蚀刻非均匀性:片内:≤4%;

                                                 片间:≤4%;

                                                 批次间: ≤4%;
    颗粒控制:

                    - 增加值<30颗@0.09微米(带氧化硅膜测试,来料颗粒<50颗)
    金属离子:

                    <5E9 atoms/cm2